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在掃描電鏡 (SEM) 中，非導電樣品容易積累電荷，導致圖像失真、亮度不均或無法成像。以下是處理高電荷積累樣品成像問題的有效方法：

1. 樣品預處理

鍍膜處理

目的：在樣品表面覆蓋一層導電材料，減少電荷積累。

常用材料：金 (Au)：高導電性，適合高分辨率成像。

碳 (C)：適用于元素分析（EDS），避免金屬干擾。

鉑 (Pt) 或鉑鈀合金：適用于超高分辨率成像。

方法：使用濺射鍍膜儀或真空蒸鍍儀，在樣品表面形成均勻的導電薄膜。

樣品清潔

清除樣品表面的灰塵或污染物，以避免電荷集中在局部區域。

使用壓縮空氣或低功率等離子清潔設備進行清潔。

2. 調整 SEM 操作參數

降低加速電壓

原理：低加速電壓（1-5 kV）減少電子束對樣品的激發，降低電荷積累。

操作：在 SEM 設置中調節加速電壓，同時注意圖像分辨率的變化。

降低束流強度

減少電子束的電流強度，降低樣品表面電荷的累積速率。

使用較小的探針孔徑（Aperture）以減少束流。

增加工作距離 (WD)

增大樣品與物鏡之間的距離（通常為 10-15 mm），降低電子束的聚焦強度，減少電荷積累。

使用環境模式

如果 SEM 具備環境模式（如低真空或變壓模式），可以將腔室壓力升高至 10-100 Pa，引入氣體（如水蒸氣或氮氣）中和電荷。

3. 使用導電連接

目的：將樣品表面與樣品臺電氣連接，形成導電路徑，快速中和積累的電荷。

方法：使用導電膠帶、導電銀漆或導電銅絲將樣品連接到樣品臺。

確保導電材料與樣品表面接觸良好。

4. 數據處理與后期調整

圖像平均化：使用 SEM 軟件的幀累積功能（Frame Integration），通過多次掃描平均化圖像，減少電荷引起的隨機噪聲。

圖像后處理：對采集的圖像進行后期處理，調整對比度和亮度，增強可見性。

5. 替代技術

如果上述方法仍無法解決問題，可以考慮使用其他表征技術：

原子力顯微鏡 (AFM)：用于高分辨率的表面形貌觀察，無需導電處理。

透射電鏡 (TEM)：適用于納米級樣品的內部結構分析。

以上就是澤攸科技小編分享的如何處理掃描電鏡中高電荷積累樣品的成像問題。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢