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掃描電鏡（SEM）的標定（Calibration）主要用于確保測量的準確性，包括尺寸測量、放大倍率、電子束偏轉等。標定通常涉及以下幾個關鍵步驟：

1. 放大倍率和尺寸標定

目的：確保 SEM 顯示的尺寸和真實物理尺寸一致。

方法：

使用標準樣品（Calibration Standard），如硅光柵、金剛石網(wǎng)格、納米刻線標樣等。

選擇已知尺寸的參考結構（如 100 nm 間距的光柵）。

在不同放大倍率下拍攝圖像，并使用圖像測量工具對比實際尺寸與標定尺寸。

調(diào)整 SEM 軟件中的校準因子，使測量值與真實尺寸匹配。

2. 電子束偏轉和掃描畸變校正

目的：減少束斑漂移、形變，提高掃描精度。

方法：

觀察規(guī)則對稱的標準樣品，如方形網(wǎng)格或周期性結構，檢查是否有失真。

調(diào)整 SEM 的掃描系統(tǒng)，使圖像中的幾何形狀準確無誤。

可能需要調(diào)整電子束的掃描校正參數(shù)。

3. 束流和工作距離標定

目的：優(yōu)化束流和焦距，提高分辨率和深度對比。

方法：

選擇高分辨率標準樣品，如金顆粒或碳納米管。

逐步調(diào)整 束流（Beam Current），觀察對比度與清晰度。

調(diào)整 工作距離（Working Distance），確保成像效果。

4. 電子束聚焦和像散校正

目的：消除像散，提高成像清晰度。

方法：

逐步調(diào)整 消像散（Stigmator），優(yōu)化電子束形狀。

觀察高放大倍率下的金顆粒樣品，直到邊緣清晰、無拖尾。

5. 能譜（EDS）標定（如適用）

目的：確保元素分析的能量精度。

方法：

使用已知成分的標準樣品，如純銅（Cu）、硅（Si）等進行 EDS 采集。

對比測得的峰位與已知元素的 X 射線能量，并調(diào)整光譜校準。

6. 透射（STEM）模式標定（如適用）

目的：用于納米尺度樣品的透射成像校準。

方法：

使用納米尺度標準樣品（如金屬薄膜），確保透射模式下放大倍率和尺寸精準。

7. 記錄標定數(shù)據(jù)并定期維護

記錄所有校準參數(shù)，定期復查并調(diào)整。

避免環(huán)境變化（溫度、振動、磁場等）影響 SEM 的穩(wěn)定性。

以上就是澤攸科技小編分享的如何進行掃描電鏡的標定的介紹。更多掃描電鏡產(chǎn)品及價格請咨詢