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在掃描電鏡（SEM, Scanning Electron Microscope）成像過程中，樣品上的污染物會嚴重影響成像質量和分析結果。污染物可能來自樣品制備過程、環境灰塵、油脂、殘留溶劑，甚至是電子束輻照引起的碳污染。以下是有效的去除方法和建議：

 1. 物理清潔法

超聲波清洗（Ultrasonic Cleaning）適用對象： 金屬、陶瓷等硬質材料，不適用于易碎或多孔材料。

操作方法：將樣品浸入適當的溶劑（如無水乙醇、丙酮或去離子水）。

使用超聲波清洗機，清洗1-5分鐘，防止時間過長導致表面損傷。

優點： 有效去除微粒、油脂和部分有機污染物。

注意： 多孔或柔軟樣品可能被損傷或吸水。

低壓等離子清洗（Plasma Cleaning）適用對象： 絕大部分樣品，尤其是去除碳污染和有機物。

操作方法：使用氬氣（Ar）或氧氣（O?）等離子，處理2-10分鐘。

氬等離子：去除表面物理污染物。

氧等離子：氧化有機污染物，轉化為氣體揮發掉。

優點： 不改變樣品表面形貌，適合敏感樣品。

注意： 氧等離子可能氧化某些金屬樣品（如銅、鋁）。

吹拂與刷拭（Air Blowing and Brushing）適用對象： 顆粒污染物較多的樣品。

操作方法：使用無油高純氮氣吹拂，避免壓縮空氣帶來的油脂污染。

柔軟的羊毛刷輕輕刷拭表面顆粒。

優點： 簡單快速，適合顆粒污染物。

注意： 不適合細微污染物或油脂類污染。

2. 化學清潔法

有機溶劑清洗（Organic Solvent Cleaning）適用對象： 去除油脂、指紋和有機污染物。

常用溶劑： 丙酮、無水乙醇、異丙醇。

操作方法：將樣品浸泡在溶劑中數分鐘，輕輕晃動或用超聲波輔助。

用無塵布或濾紙擦拭后，自然晾干或用氮氣吹干。

注意： 部分材料（如塑料或某些薄膜）可能被溶劑溶解或損傷。

酸堿清洗（Acid or Alkali Cleaning）適用對象： 金屬氧化物、銹跡或其他無機污染物。

常用溶液：稀鹽酸或硝酸：去除金屬氧化物。

氫氧化鈉（NaOH）：去除有機酸污染。

操作方法：浸泡時間控制在幾秒到幾分鐘，隨后用去離子水沖洗干凈。

用乙醇快速脫水，再用氮氣吹干。

注意： 酸堿處理可能腐蝕樣品，需謹慎。

3. 電子束污染處理（Beam-Induced Contamination）

低電壓預處理（Low Voltage Pre-Treatment）問題： 電子束會引發碳污染，尤其在高電流條件下。

解決方法：先用低電壓（如1-2 kV）掃描，去除表面吸附的污染物。

然后再逐步升高電壓進行正式成像。

周期性等離子清洗（Regular Plasma Cleaning）問題： 長時間使用后，腔室內可能累積碳污染。

解決方法：定期使用氧等離子清洗SEM腔室，減少污染來源。

頻率視使用情況而定（如每月一次）。

以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡樣品的污染物如何去除。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢