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掃描電鏡（SEM）中的電子束聚焦方式主要有以下幾種：

1. 磁聚焦

原理：使用電磁透鏡，通過磁場來聚焦電子束。這是現代SEM中常用的聚焦方式。

優點：能夠有效調節焦距，聚焦能力強，適用于不同加速電壓下的聚焦需求。

缺點：由于磁場的影響，可能會引入一些像差。

2. 電聚焦

原理：使用靜電透鏡，通過電場來聚焦電子束。電子束在電場中加速并聚焦。

優點：簡單結構，適合低電壓操作。

缺點：聚焦能力相對較弱，通常不如磁透鏡。

3. 復合聚焦

原理：結合使用電磁透鏡和電透鏡的優點，以實現更高的聚焦精度。

優點：能夠在不同條件下優化聚焦效果，提高成像質量。

缺點：設計復雜，可能增加設備成本。

4. 透射電鏡（TEM）方式

原理：在一些SEM中，可能會采用類似透射電子顯微鏡的聚焦方式，通過調整電子束的聚焦方式實現高分辨率成像。

優點：適用于需要高分辨率成像的樣品。

缺點：設備復雜，操作難度大。

5. 掃描電子束控制

原理：在掃描過程中，通過調節電場和磁場的組合，動態調整電子束的聚焦位置。

優點：可以實時控制聚焦狀態，提高成像質量。

缺點：需要復雜的控制系統，增加了操作難度。

6. 其他聚焦技術

納米聚焦技術：近年來出現的先進技術，能夠將電子束聚焦到納米級別，以實現超高分辨率成像。

離子聚焦：在一些特殊應用中，可能會使用離子束進行聚焦和成像。

以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡的電子束聚焦方式有哪些。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢