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對掃描電鏡（SEM）樣品進行金屬涂層或碳涂層處理是為了提高樣品的導電性，減少電荷積累，以獲得更好的SEM圖像。以下是一般的金屬涂層和碳涂層處理步驟：

金屬涂層處理：

樣品準備：

清潔和干燥掃描電鏡樣品，確保表面沒有塵土或雜質。

真空蒸發法：

在真空沉積設備中，通常使用金屬蒸發器（如金、鉑、銅等）。

放置樣品在樣品臺上，將金屬源放入蒸發器中。

創建真空，并加熱金屬源以產生蒸汽，金屬蒸汽會沉積在樣品表面。

控制薄膜厚度：

控制沉積時間以確定金屬薄膜的厚度，通常在幾納米到幾十納米之間。

后期處理：

如果需要更均勻的金屬涂層，可以使用旋涂（sputtering）或者對樣品進行旋轉以實現均勻的涂層。

碳涂層處理：

樣品準備：

清潔和干燥SEM樣品，確保表面沒有塵土或雜質。

碳濺射法：

使用碳濺射機或濺射設備。

放置樣品在樣品臺上，將碳源（通常是碳棒）放入設備中。

真空和碳濺射：

創建真空環境，將碳棒加熱以產生碳蒸汽。

碳蒸汽會在樣品表面沉積。

控制碳薄膜厚度：

控制濺射時間以確定碳薄膜的厚度，通常在幾納米到幾十納米之間。

后期處理：

對于更厚的涂層，可以多次進行碳濺射。

確保在進行涂層處理之前詳細了解SEM樣品的性質和要求，以選擇適當的涂層方法和參數。另外，小心避免在樣品上形成過厚的涂層，因為這可能會掩蓋樣品表面的微觀結構。

ZEM15臺式掃描電鏡能譜一體機

以上就是澤攸科技小編分享的如何進行掃描電鏡樣品的金屬涂層或碳涂層處理。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢